美國磁通Magnaflux顯像劑SKD-S2應(yīng)用領(lǐng)域及原理

溶劑型顯像劑SKD-S2應(yīng)用領(lǐng)域及原理

應(yīng)用范圍

缺陷位置: 表面開口缺陷；應(yīng)用范圍廣

可適用于熒光或著色兩種類型的滲透液，以及各種不同的檢測工藝，無需重新配制或者稀釋

SKD-S2符合ISO 3452標(biāo)準(zhǔn)要求，可適用于多種不同類型的工件

美國磁通Magnaflux顯像劑SKD-S2應(yīng)用領(lǐng)域及原理

適用于:焊接、機(jī)加工車間；現(xiàn)場作業(yè)

SKD-S2是一種無鹵的溶劑型顯像劑，可特殊合金鋼和核電行業(yè)的主要要求。 它是一種可以直接使用，快干的白色懸浮液，施加后能夠形成一層不透明的白色膜層，為滲透檢測提供能產(chǎn)生鮮明對(duì)比指示的背景。

應(yīng)用范圍

缺陷位置: 表面開口缺陷

適用于:

焊接

機(jī)加工車間

現(xiàn)場作業(yè)

SKD-S2已被列入QPL AMS 2644合格產(chǎn)品目錄。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

提高缺陷顯示的可見性

為滲透顯像過程提供一個(gè)最佳的工件表面條件，提高缺陷顯示效果

亮白、不透明的涂層可覆蓋工件原本的顏色，使得滲透液快速返吸至表面，形成明顯、清晰的缺陷顯示

應(yīng)用范圍廣

可適用于熒光或著色兩種類型的滲透液，以及各種不同的檢測工藝，無需重新配制或者稀釋

SKD-S2符合ISO 3452標(biāo)準(zhǔn)要求，可適用于多種不同類型的工件

清洗快速

后續(xù)清洗容易，可有效縮短檢測時(shí)間

產(chǎn)品特點(diǎn)

白度高

提供良好的背景反差

無熒光

依靠毛細(xì)作用將滲透劑吸出，形成缺陷顯示

快速干燥 

施加容易

即用型，使用方便

極低毒性

不反光、不透明圖層

去除容易

符合標(biāo)準(zhǔn)

AECL

AMS 2644

ASME BPVC

ASTM E1417

ASTM E165

Boeing BAC 5423 PSD 6-46 or 8-4

Boeing PS-21202

GE P3TF2

GE P50YP107

Honeywell EMS 52309

ISO 3452-2 

MIL-STD-2132

MIL-STD-271

NAVSEA 250-1500-1

NAVSEA T9074-AS-GIB-010/271

QPL SAE AMS 2644